テトラアセトキシシラン

基本情報

• 化学名: テトラアセトキシシラン
• CAS番号: 562-90-3
• 化学分子式: C₈H₁₂O₈Si
• 分子量: 264.264
• Hs コード: 29159000
• Mol ファイル ダウンロード: 562-90-3.mol

別名: けい酸四酢酸四無水物 , けい素テトラアセタート , 四酢酸けい素 , テトラアセトキシシラン , トリス(アセチルオキシ)シリル アセタート , tris(acetyloxy)silyl acetate ,

関連する cas 番号: 58059-17-9 55334-42-4 52197-12-3 50634-76-9 5451-55-8 54888-34-5 5445-16-9 5816-02-4 51306-43-5 50534-57-1

化学物質詳細情報

物性情報:

安全性情報:

• ピクトグラム: C
• 危険コード: C
• ステートメント: 34
• 安全に関する声明: S26-S36/37/39-S45

用途:

• 法規制番号: (2)-293 , EINECS2092397 , TSCA(562-90-3) ,
• 紹介と応用です: テトラアセトキシランは、白色の結晶性固体で、酢酸の刺激臭を放つ化合物です。シリコンハイドライドやアルコキシルの代わりに、低温でのシリコンジオキサイド（SiO2）の製造に使用されます。テトラアセトキシランは水分に接触すると水解し、酢酸を放出しシランオールを形成します。シランオールは自ら反応してシロキサンを生成したり、無機被膜に結合することもできます。テトラアセトキシランは、薄膜の製造、シリコン複合体の合成、低温でのSiO2製造、シリカゲルおよびエチルアセチルの合成、ソルゲル前駆体として多様な用途に使われています。特に、半導体や電子業界においては、高品質の薄膜を製造するために直接光化学蒸発沈積法を使用してシリコンジオキサイド薄膜を製造する際に重要な前駆体として使われています。また、シリコン複合体の合成にも使用され、材料科学や触媒分野で潜在的な応用が期待されています。さらに、シリカゲルとエチルアセチルの合成にも利用され、シリカゲルは乾燥剤、吸着剤、触媒のサポートとして広く使われています。ソルゲル前駆体として使用されると、光学ファイバー、コーティング、独特の特性を持つ高度な材料の製造に使われます。