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ソジオビス(トリメチルシリル)アミンメーカー CAS番号1070-89-9サプライヤー | LookChem

ソジオビス(トリメチルシリル)アミン

基本情報 Edit
  • 化学名:ソジオビス(トリメチルシリル)アミン
  • CAS番号:1070-89-9
  • 化学分子式:C6H18NNaSi2
  • 分子量:183.376
  • Hs コード:29319090
  • Mol ファイル ダウンロード:1070-89-9.mol
ソジオビス(トリメチルシリル)アミン

別名: 3-ソジオ-2,2,4,4-テトラメチル-3-アザ-2,4-ジシラペンタン , N-(トリメチルシリル)-N-ソジオトリメチルシリルアミン , 1,1,1,3,3,3-ヘキサメチル-2-ソジオプロパンジシラザン , α,α,α-トリメチル-N-ソジオ-N-(トリメチルシリル)シランアミン , ソジオビス(トリメチルシリル)アミン , [ビス(トリメチルシリル)アミノ]ナトリウム , ビス(トリメチルシリル)アミノナトリウム , [ジ(トリメチルシリル)アミノ]ナトリウム , ソジオジ(トリメチルシリル)アミン , ソジオイミノビス(トリメチルシラン) , (ソジオイミノ)ビス(トリメチルシラン) , ビス(トリメチルシリル)ソジオアミン , N-ソジオビス(トリメチルシリル)アミン , sodiobis(trimethylsilyl)amine ,

関連する cas 番号: 10000-42-7 100-00-5 1000-05-1 10000-56-3 100007-55-4 100010-02-4 10001-13-5 10001-43-1 100015-12-1 100-01-6

マーケティングと価格
メーカーおよび販売代理店:
  • メーカー/ブランド
  • 化学薬品および原材料
  • 包装
  • 価格
  • AHH
  • Sodium bis(trimethylsilyl)amide 98%
  • 100g
  • $ 298.00
  • Alfa Aesar
  • Sodium bis(trimethylsilyl)amide, 98%
  • 50g
  • $ 230.00
  • Alfa Aesar
  • Sodium bis(trimethylsilyl)amide, 98%
  • 2g
  • $ 18.00
  • Alfa Aesar
  • Sodium bis(trimethylsilyl)amide, 2M soln. in THF
  • 100ml
  • $ 46.10
  • Alfa Aesar
  • Sodium bis(trimethylsilyl)amide, 1M soln. in THF
  • 100ml
  • $ 47.80
  • Alfa Aesar
  • Sodium bis(trimethylsilyl)amide, 98%
  • 10g
  • $ 62.00
  • Alfa Aesar
  • Sodium bis(trimethylsilyl)amide, 2M soln. in THF
  • 500ml
  • $ 136.00
  • Alfa Aesar
  • Sodium bis(trimethylsilyl)amide, 1M soln. in THF
  • 500ml
  • $ 140.00
  • Apolloscientific
  • Sodium bis(trimethylsilyl)amide, 2M in THF
  • 100ml
  • $ 135.00
  • Apolloscientific
  • Sodium bis(trimethylsilyl)amide, 2M in THF
  • 500ml
  • $ 304.00
合計 141 の原材料サプライヤー
化学物質詳細情報 Edit
物性情報:
安全性情報:
  • ピクトグラム: CorrosiveC,FlammableF
  • 危険コード:C,F
  • ステートメント: 34-19-11-67-65-63-48/20-14/15
  • 安全に関する声明: S26-S36/37/39-S45-S8
用途:
  • 法規制番号: TSCA(1070-89-9) , 2-(3)-458 ,
  • 紹介と応用です: ソジオビス(トリメチルシリル)アミンは、高い基礎性和ヌクレオフィリシティを持つ化学分析用リエージェントです。この特性を生かして、アンロートの選定的生成、ウィッティグ试剂の準備、酰基鎚イオン相当物の形成、カルボイド種の生成など、有用な有機変異に利用されます。ヌクレオフィルとして、一次アンモンの準備に使用される窒素源としても利用されています。また、ステアリックに妨げられたベースとして有用で、フェニルアセチレンのポリマー化をロジウム(I)カタライズと共に著しく加速させる効果もあります。
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