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化学気相成長(CVD)

CVDは、材料科学および半導体製造に使用される技術であり、材料の薄膜を基板上に堆積させる。揮発性前駆体の気相中での化学反応に関与し，表面に固体物質を形成する。

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化学気相成長(CVD)の学術論文

Platinum ω-Alkenyl Compounds as Chemical Vapor Deposition Precursors. Mechanistic Studies of the Thermolysis of Pt[CH₂CMe₂CH₂CH= CH₂]₂in Solution and the Origin of Rapid Nucleation
関連化学物質
- Cyclobutane,1,1-dimethyl-3

関連エントリ

熱分解白金ω−アルケニル化合物 PT[CH 2CME₂CH 2CH=CH 2]₂ 急速核形成

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