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錯化行為

配位子と金属イオンとの錯体形成能力

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錯化行為の学術論文

A tripodal trisilanol ligand and its complexation behavior towards Cu^I, Cu^II, and Zn^II
関連化学物質
- C₄₂H₃₈O₃Si₄

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配基実験

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