NCLのような結紮方法のいくつかは,システイン残基を用いた結紮に関する。痕跡のない精製を実現するためには、他の官能基に影響を与えることなく、チオエーテル(硫黄)基を選択的に除去することによって製品を脱硫する必要があるかもしれない。
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2-azido-1-(2-nitrophenyl)ethyl (2,5-dioxopyrrolidin-1-yl)carbonate
O-ethyl ethylphosphorochloridothioate