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開発者ソリューション
現像剤溶液の選択も溶解挙動を決定する鍵である。現像剤を選択して所望のパターンを実現するようにレジストの露出領域と相互作用する。現像剤は、レジストの露光領域または非露光領域を選択的に除去するように設計することができる。
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開発者ソリューションの学術論文
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Dissolution behavior of tetrafluoroethylene-based fluoropolymers for 157-nm resist materials
関連化学物質
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α,α-ビス(トリフルオロメチル)ノルボルナ-5-エン-2-エタノール
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