溶解行為
レジスト材料の溶解挙動を知ることはリソグラフィにおいて重要である。ポジ型レジストでは，フェノール系レジストのように，露光領域が現像剤溶液中で溶解しやすくなると溶解する。テトラフルオロエチレン系フルオロポリマーをベースとした157 nmのレジスト材料では，その溶解挙動は157 nmの露光に敏感に調整された。露光後、これらの材料は、現像剤溶液に多少溶解するように修正された。
化学原料を購入する必要がある場合は、 要求情報を送信してください最新の見積りを入手してください。
溶解行為の学術論文
-
Dissolution behavior of tetrafluoroethylene-based fluoropolymers for 157-nm resist materials
関連化学物質
-
α,α-ビス(トリフルオロメチル)ノルボルナ-5-エン-2-エタノール
-
