ビス(トリフルオロメチル)ホスフィン基の導入は、パラジウム触媒反応におけるリガンドの性能に重要である。一般にビス(トリフルオロメチル)ホスフィンオキシドや関連化合物を用いて様々な合成方法で導入される。
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dimethyl 3-(3'-chlorophenyl)-1-butene-4,4-dicarboxylate