出発材料がケトンなどのカルボニル基を含む場合、適切な保護基を使用してそれを保護する必要があるかもしれません。ケトンの一般的な保護基は、アセタール、ケタールまたはシリコーンエーテルを含む。この工程は、後続工程においてカルボニル基で望ましくない反応が生じることを防止するために必要である。
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(2S,3S)-3,4-diphenyl-2-methyl-2,3-epoxy-1-butanol