ラジカル脱カルボキシル工程では、カルボン酸基のα−炭素上にラジカルを発生させる。この基はカルボン酸基を抽出し,二酸化炭素(CO 2)を形成し,α−Carbonに新たな基を形成した。
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NaH
2-Pentenoic acid, 5-phenyl-, (Z)-
3-cyclohexyl-6-methyl-2-(pyridine-2-thiyl)-1,4-benzoquinone