Re(III)錯体
Re(III)錯体は中程度の高い酸化状態を有し、一般に八面体配位幾何学的配置を採用する。三座ONX供与体を含むシッフ塩基はRe(III)に安定した配位環境を提供した。これらの錯体は酸化還元活性を有し，様々な反応の触媒として用いることができる。
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Re(III)錯体の学術論文
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Rhenium(I), (III) and (V) complexes of tridentate ONX (X = O, N, S)-donor Schiff bases
関連化学物質
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2-hydroxy-N-(2-nitrobenzylidene)-aniline
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