三螺旋が形成されると、露出したシトシン上での選択的反応を可能にする。そして,曝露したシトシン塩基上で様々な化学修飾や酵素反応を行うことができる。三螺旋構造は相互作用を安定させ、関心のある特定のシトシンを標的と修飾しやすくする。
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Toluene-4-sulfonic acid 4-((2S,4S,5R)-4-methoxymethoxy-5-trityloxymethyl-tetrahydro-furan-2-yl)-butyl ester
2-Ethyl-1-trimethylsilyloxyhexene
water
C56H99NO13Si2