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アミンの立体障害(R基)
R基が小さい水素(H)である場合、空間抵抗は最小となる。これはパラジウム中心によりよく近づくことができ、潜在的により速い反応速度およびより良い収率をもたらすことができる。 R基が大きなメチル(Me)基であれば，立体障害を導入し，アミンがパラジウム触媒に配位しにくくなる。これは反応速度を遅くし、さらに収率を下げる可能性があり、具体的には具体的な反応条件に依存する。
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アミンの立体障害(R基)の学術論文
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Steric effects in palladium-catalysed amination of aryl triflates and nonaflates with the primary amines PhCH(R)NH2 (R=H, Me)
関連化学物質
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(R)-(+)-2-naphthyl-(1-phenylethyl)amine
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