レゾルシノール[4]芳香族炭化水素核の合成
A.レゾルシノールをベース化合物とする。 B.適切な保護基を用いて水酸基を保護する。一般的な保護基は、メチル(Me)、フェニル(Bn)またはtert-ブチルジメチルケイ素基(TBDMS)を含む。 C.ホルムアルデヒドなどの適切な環化試薬を用いて、保護されたレゾルシノールを環化し、レゾルシノール[4]芳香族核を形成する。
化学原料を購入する必要がある場合は、 要求情報を送信してください最新の見積りを入手してください。
A.レゾルシノールをベース化合物とする。 B.適切な保護基を用いて水酸基を保護する。一般的な保護基は、メチル(Me)、フェニル(Bn)またはtert-ブチルジメチルケイ素基(TBDMS)を含む。 C.ホルムアルデヒドなどの適切な環化試薬を用いて、保護されたレゾルシノールを環化し、レゾルシノール[4]芳香族核を形成する。
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