特定の標的化合物に応じて、出発材料に官能基を導入または修飾する必要がある場合がある。このステップは、後続の反応におけるそれらの安定性を保証するために、いくつかの官能基を保護および脱保護することを含むことができる。
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(S)-4-(1-Benzyloxy-but-3-enyl)-3-but-3-enyl-oxazolidin-2-one
シリカゲル
phenylmethyl 2-trimethylsilylethynyl-1(2H)-pyridinecarboxylate
Subelliptene G
(3aR,4R,5R,6aS)-5-(benzoyloxy)hexahydro-4-(iodomethyl)-2H-cyclopentafuran-2-one
4-[2-(2-naphthyl)-(E)-ethenyl]-benzyl(triphenyl)phosphonium bromide
(4S,5S)-6-Benzyloxy-1-[(2R,4S,6S,8R,9S)-8-((S)-sec-butyl)-4-(tert-butyl-dimethyl-silanyloxy)-9-methyl-1,7-dioxa-spiro[5.5]undec-10-en-2-yl]-4-(2-methoxy-ethoxymethoxy)-5-methyl-hexan-3-one