Suzukiカップリング後、生成物は、ベンジルオキシカルボニル(CBZまたはZ)のようないくつかの官能基上の保護基を含むことができる。還元脱ベンジルオキシカルボニル化工程では,これらの保護基は選択的に除去され,通常触媒(通常炭素上のパラジウム,Pd/C)の存在下で水素(H 2)などの試薬が用いられる。この工程はアミンやアルコールなどの官能基を暴露し,さらなる操作を可能にする。
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benzyl (6-(6-oxocyclohex-1-en-1-yl)benzo[d][1,3]dioxol-5-ylmethyl)carbamate