脱シリコン
脱ケイ素化とは分子からシリコン基を除去することである。β-ヒドロキシシランの場合、これは、一般に、β-炭素(ヒドロキシル基に隣接する炭素)に結合したケイ素原子を除去することを含む。 反応には、一般に、フッ素イオン(F^-)、テトラブチルフッ化アンモニウム(TBAF)または他のフッ化物源などの適切な脱ケイ素剤が使用される。これらの試薬は，水酸基の存在下でシロキサン結合を効率的に溶解させることができる。 ケイ素上の置換基の存在はケイ素−酸素結合の反応活性に影響する。シリコン上の電子吸引基はケイ素基を安定させ，脱ケイ素がそれほど有利ではなく，電子供与基が反応活性を増強する可能性がある。
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脱シリコンの学術論文
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Desilylation versus elimination reactions of β-hydroxysilanes: Effect of substituents on silicon
関連化学物質
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Silane, 1-cyclohexen-1-yldimethyl-
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A simple and Highly Chemoselective Desilylation of tert-Butyldimethylsilyl Ethers
関連化学物質
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4-<(tert-butyldimethylsilyl)oxy>-3-methoxybenzyl alcohol
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